●桂田 健志 Katsurada Takeshi
弁理士 Patent Attorney
･略歴
東京工業大学無機材料工学科を卒業後、新日本製鐵株式会社(現 日本製鐵株式会社)にて導電性セラミックスの開発に従事。その後、ベンチャー企業の知財セクション勤務、国際特許事務所勤務を経て、2006年に共同経営者として新和知的財産権事務所を設立し、2010年に同事務所をWilligence特許事務所に改称して、現在に至る。
特許事務所在職中は、携帯コンテンツ配信会社、セラミックスメーカー、総合電機メーカー、総合研究所ほかの、国内及び国外における、特許及び商標の、出願及び中間処理などを担当。
･メンバーシップ
JPAA（日本弁理士会）会員
APAA（アジア弁理士協会）会員
・著作
「知的財産権用語辞典」日刊工業新聞社（2002年） (共著)
・その他
独立行政法人 中小企業基盤整備機構 ビジネス塾 講師
独立行政法人 中小企業基盤整備機構 中小企業ベンチャー総合支援センター 知財アドバイザー
Tokyo Institute of Technology, B.S. Inorganic Chemistry
Specialized in chemistry and computer technology
Japan Patent Attorneys Association (JPAA)
Asian Patent Attorneys Association (APAA)